Water Showering System
WSS 개요
최첨단 기술을 이용하는 차세대 반도체 생산을 위해 첨단 공정, 최신 장비 및 재료 보다 파티클(입자오염) 관리 등 무형 공해를 제어하는 기술이 수율 향상에 결정적 큰 영향을 미치고 있다.
LCD, OLED 등의 제조 가공기술이 미세화 됨에 따라 이온성 Gas에 대한 화학오염이 공정품 수율에 밀접한 영향을 미치고 있어 D.I water(순수) 분사 장치인 WSS를 통해 도입 외기에 존재하는 수용성 Gas [NH3, SOx, NOx 등] 유해 가스를 녹여 제거하여 Ph 농도를 조절하여 공정품 수율 향상시키는 역할을 하는 장치이다.
- 외기 중 존재하는 수용성 Gas[NH3, SOx, NOx]를 물을 분무하여 제거하며, 동시에 가습효과까지 병행할 수 있는 시스템
WSS 특징
- 공정품의 수율을 향상시킴
- 수용성 Gas 제거 효율이 뛰어남 [NH3(80%), SOx(70%), NOx(30%)]
- OAC 설계 기준으로 WSS 선정을 함
WSS 구조 및 명칭
1. Frame & 배관 설치
2. Eliminator 설치
| ① Eliminator |
|---|
| ② 급수배관(C-PVC) |
| ③ 분사 Nozzle |
| ④ WSS Frame |
| ⑤ Drain 수조 |
WSS Frame
WSS Frame
Module형 구조로 조립이 용이하며 sus재질로 영구적이며 부식 및 오염이 없다.
CLEAN PVC
CLEAN PVC
Clean pipe사용으로 압력손실이 적고 오염이 없으며 반 영구적으로 시공이 용이하다.
DRAIN 수조
DRAIN 수조
응축수의 양을 충분히 수용 및 배수 시기는 구조로 이음부는 가스켓을 삽입 및 유공, EX메탈라스 type의 발판으로 미끄럼 방지구조.
Eliminator
Eliminator
압력손실이 적고 효율이 우수하면 물 흐름이 좋은 구조로 반 영구적 사용.